目標(biāo)散射特性近場(chǎng)測(cè)量方法研究.pdf

1、近場(chǎng)測(cè)量方法是國(guó)內(nèi)外研究目標(biāo)散射特性的一個(gè)重要方法。該方法具有測(cè)試精度高、信息量大、可全天候工作、測(cè)試距離近、在室內(nèi)測(cè)量容易實(shí)現(xiàn)等優(yōu)點(diǎn)。本文利用理論分析和計(jì)算機(jī)模擬相結(jié)合的方法對(duì)目標(biāo)散射特性近場(chǎng)測(cè)量方法進(jìn)行了研究。
　　 本研究主要內(nèi)容包括：首先，研究了雙站平面近場(chǎng)散射測(cè)量的方法，并以無(wú)限長(zhǎng)理想導(dǎo)體圓柱作為待測(cè)目標(biāo)，對(duì)該方法進(jìn)行了計(jì)算機(jī)模擬，對(duì)散射近場(chǎng)數(shù)據(jù)進(jìn)行了加余弦窗的處理，并用遺傳算法對(duì)窗函數(shù)的參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化，得到了一些有用

2、的結(jié)果。計(jì)算結(jié)果表明，利用基于遺傳算法參數(shù)優(yōu)化的余弦窗函數(shù)的近場(chǎng)數(shù)據(jù)處理方法能夠有效地減小由于有限掃描面而引起的截?cái)嗾`差。其次，研究了雷達(dá)成像的方法，在此基礎(chǔ)上建立了一種利用一個(gè)頻段連續(xù)波作為發(fā)射信號(hào)，對(duì)待測(cè)目標(biāo)進(jìn)行二維轉(zhuǎn)臺(tái)掃描的成像模型，進(jìn)而得到目標(biāo)成像區(qū)域場(chǎng)強(qiáng)的二維矩陣，并在此區(qū)域進(jìn)行成像。利用該方法對(duì)理想的散射點(diǎn)目標(biāo)的成像進(jìn)行了計(jì)算機(jī)仿真，計(jì)算結(jié)果表明該成像方法能夠很好地反映出目標(biāo)散射的強(qiáng)弱。最后，通過(guò)成像結(jié)果提取了目標(biāo)散射中心的