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文檔簡介
1、脈沖電沉積由于其生產(chǎn)效率高，鍍層結(jié)構(gòu)致密等優(yōu)點，受到越來越廣泛的關(guān)注。本文通過脈沖電沉積方法制備Ni-TiC復合鍍層，研究了鍍液中TiC顆粒的濃度和占空比與復合鍍層性能之間的關(guān)系，確定了鍍液中TiC顆粒的最佳濃度，利用掃描電鏡(SEM)、能譜儀(EDS)、光學顯微鏡和X-ray衍射儀(XRD)等手段對復合鍍層的顯微形貌、成分組成和相結(jié)構(gòu)進行觀察和分析。結(jié)果表明，TiC顆粒彌散分布于Ni基質(zhì)中，鍍層與基體界面清晰，界面處無孔隙、裂紋等缺陷
2、。施鍍2h厚度約為217μm，復合鍍層平整均勻，鍍態(tài)下復合鍍層的基質(zhì)鎳相為晶態(tài)結(jié)構(gòu)。其他工藝條件一定，當鍍液中TiC顆粒濃度為32g/L時，鍍層中顆粒體積分數(shù)達到最大，為23.9vo l.％，鍍層硬度、耐蝕性、耐磨性均達到最優(yōu)值。當鍍液中TiC顆粒濃度為32g/L，占空比為10%時，復合鍍層鎳晶粒粒徑最??；當占空比為50%時，鍍層硬度、耐蝕性、耐磨性最佳。
納米復合鍍層由于具有優(yōu)異的物理及力學性能而受到廣泛的研究與關(guān)注。為充分
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