2023年全國(guó)碩士研究生考試考研英語(yǔ)一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩73頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、本研究采用多弧離子鍍?cè)谝环N自制耐熱鈦合金和TC4鈦合金表面制備了NiCrAlY涂層。對(duì)自制耐熱鈦合金表面NiCrAlY涂層在不同的熱處理制度下進(jìn)行真空熱處理,研究了真空熱處理制度對(duì)NiCrAlY涂層顯微組織和界面結(jié)構(gòu)的影響,討論了NiCrAlY涂層/鈦合金基體界面元素?cái)U(kuò)散行為以及界面反應(yīng)機(jī)理,并對(duì)真空熱處理制度對(duì)鈦合金基體顯微組織的影響做初步研究;對(duì)鈦合金表面NiCrAlY涂層進(jìn)行了高溫抗氧化性能研究。其結(jié)論如下: 1、沉積態(tài)N

2、iCrAlY涂層主要由γ-Ni相、β-NiAl相以及過(guò)飽和的α-Cr固溶體組成,在650℃真空保溫3小時(shí)后,NiCrAlY涂層中開(kāi)始有γ-Ni<,3>A1金屬間化合物析出,870℃3小時(shí)真空熱處理后,涂層中γ'-Ni<,3>Al相含量明顯減少。1050℃3小時(shí)真空熱處理后涂層僅有CrTi<,4>相; 2、真空熱處理溫度≤650℃時(shí),有利于促進(jìn)涂層與基體的冶金結(jié)合。在650至870℃真空熱處理后,涂層/基體界面發(fā)生明顯的界面反應(yīng),

3、首先是基體中界面附近相變影響區(qū)的形成,然后是Ni<,3>(A1,Ti)和Ti<,2>Ni化合物層的出現(xiàn),最后在Ni<,3>(A1,Ti)和Ti<,2>Ni化合物層之間形成齒狀TiNi化合物; 3、在650~870℃溫度區(qū)間在NiCrAlY涂層/鈦合金基體主要發(fā)生了Ni、Ti元素的擴(kuò)散。當(dāng)真空熱處理溫度提高到870℃以上,Cr元素發(fā)生明顯地?cái)U(kuò)散并參與界面反應(yīng),引起界面層脆性增加; 4、溫度≤650℃,外層生長(zhǎng)而內(nèi)層收斂,總

4、反應(yīng)層厚度呈減少趨勢(shì),650℃以上時(shí)內(nèi)外層同時(shí)生長(zhǎng),870℃以上時(shí),內(nèi)層厚度急劇增加,所以界面反應(yīng)層迅速增厚; 5、真空熱處理溫度和時(shí)間均影響鈦合金α和β相的數(shù)量和形態(tài),從而影響合金的性能;870℃以上,保溫3小時(shí),鈦合金基體顯微組織發(fā)生明顯變化,隨著時(shí)間的延長(zhǎng),保溫50小時(shí),750℃以上基體顯微組織就有明顯變化; 6、NiCrAlY涂層/TC4試樣在空氣中700℃和800℃氧化時(shí)能形成致密、完整的保護(hù)性氧化膜,對(duì)TC4

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

最新文檔

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論