TiN薄膜的磁控濺射法制備及其光學(xué)性能研究.pdf

1、在TiN薄膜的基本物理性能的基礎(chǔ)上，本文提出制備具有低輻射和陽(yáng)光控制的設(shè)想的TiN鍍膜玻璃。 本文采用反應(yīng)磁控濺射法制備TiN薄膜，并分別在沉積時(shí)間、工作總壓、濺射功率、氮?dú)夥謮?、基底溫度，和襯底偏壓上進(jìn)行參數(shù)控制，研究各個(gè)參數(shù)控制條件下TiN薄膜沉積速率、致密性及微觀結(jié)構(gòu)、形貌、成分、生長(zhǎng)取向的規(guī)律；分析TiN薄膜在紫外-可見(jiàn)-近紅外波段的透光性能，以及各種因素對(duì)氮化鈦薄膜電阻率和中遠(yuǎn)紅外光反射率的影響。 研究結(jié)果表明

2、：對(duì)TiN薄膜結(jié)構(gòu)、形貌和性能影響最大的是氮?dú)夥謮?、基底溫度和襯底偏壓。本文著重對(duì)這三個(gè)參數(shù)對(duì)TiN薄膜微觀結(jié)構(gòu)、生長(zhǎng)取向及性能的影響進(jìn)行了較為深入的分析和研究，并獲得了一些相關(guān)規(guī)律。此外也討論了靶材燒蝕坑對(duì)薄膜質(zhì)量的影響。 對(duì)氮化鈦薄膜的光學(xué)性能研究表明：隨著沉積時(shí)間、氬氮比和系統(tǒng)偏壓的增加，薄膜對(duì)紫外-可見(jiàn)-近紅外光的透光率呈有規(guī)律地下降，表現(xiàn)出很好的對(duì)可見(jiàn)光和近紅外光的光譜選擇性?；诇囟鹊纳呤贡∧さ耐腹庑孕》鰪?qiáng)?？梢?jiàn)