紅霉素分子印跡聚合物膜的制備及性能研究.pdf

1、分子印跡作為一種新型分子分離新技術(shù)，發(fā)展十分迅速。分子印跡技術(shù)(MIT)通過分子印跡聚合物(MIPs)對(duì)模板分子的“記憶”效應(yīng)達(dá)到對(duì)目標(biāo)分子的特異性選擇，近年得到了巨大發(fā)展，成為色譜、手性體拆分、分子識(shí)別傳感器和微量分析等領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。 將分子印跡技術(shù)和膜分離技術(shù)結(jié)合起來，制成的分子印跡聚合物分離膜，兼具分子印跡技術(shù)與膜分離技術(shù)的特點(diǎn)，與普通的分離膜相比，具有對(duì)特定分子選擇性高的特點(diǎn)，與傳統(tǒng)的印跡聚合物相比，具有無需粉碎研磨過

2、程，印跡孔穴保留率高，分子識(shí)別性能強(qiáng)的特點(diǎn)，是功能化分離膜的研究熱點(diǎn)，分子印跡膜的研究無疑將是對(duì)傳統(tǒng)的膜分離技術(shù)的一次突破。 本研究以大環(huán)內(nèi)酯類抗生素紅霉素(EM)為模板分子，以含有丙烯腈(AN)成膜基和甲基丙烯酸(MAA)功能單體的共聚物為膜材料，用非共價(jià)分子印跡法制備了紅霉素分子印跡聚合物，采用溶膠一凝膠法相轉(zhuǎn)化成膜后，用超聲振蕩溶劑萃取法洗脫模板分子，得到了對(duì)紅霉素分子具有優(yōu)異分離選擇性的分子印跡膜。并探討了紅霉素分子印跡

3、膜制備過程中單體用量比、模板分子用量、引發(fā)劑種類及用量、溶劑用量及聚合溫度等條件對(duì)分子印跡聚合物性能的影響，比較不同凝膠浴組成和溫度對(duì)相轉(zhuǎn)化法制備分子印跡膜分離性能的影響，得到了制膜優(yōu)化條件。通過掃描電鏡和原子力顯微鏡、傅立葉紅外光譜、x射線衍射儀、示差掃描量熱儀以及超聲振蕩儀等對(duì)分子印跡膜的結(jié)構(gòu)和性能進(jìn)行了分析研究，取得了重要的研究結(jié)果。 結(jié)果表明，本研究制備的分子印跡膜為大孔不對(duì)稱結(jié)構(gòu)，分子印跡膜表面具有大量的印跡孔穴；模板

4、分子與功能單體之間存在相互作用的結(jié)合位點(diǎn)，紅霉素分子印跡膜中印跡位點(diǎn)數(shù)為1.0736×10<'3>mmol／cm<'3>。分子印跡膜屬于部分結(jié)晶聚合物，分子印跡膜的理論截留分子量為1178。紅霉素分子印跡膜的膜通量為64.96L·h<'-1>．m<'-2>，對(duì)紅霉素的一次截留率可高達(dá)53.17﹪。通過比較分子印跡膜與非印跡膜對(duì)紅霉素分子的分離效果，證明了制備的紅霉素分子印跡聚合物膜對(duì)紅霉素分子具有優(yōu)異的選擇性。這一工作對(duì)今后分子印跡膜制