隨機(jī)粗糙面的光散射特性研究.pdf

1、隨機(jī)粗糙面電磁和光散射特性的研究在現(xiàn)代國防和日常生活中有著廣泛的需求和重要的應(yīng)用價(jià)值。經(jīng)過幾十年的發(fā)展隨機(jī)粗糙面電磁和光散射的理論與實(shí)驗(yàn)研究已經(jīng)達(dá)到了很高的水平，在衛(wèi)星遙感、目標(biāo)識(shí)別、雷達(dá)隱身以及工業(yè)生產(chǎn)中的表面檢測等等領(lǐng)域都離不開粗糙面電磁和光散射的高水平的理論指導(dǎo)。
　　論文首先敘述了隨機(jī)粗糙面電磁散射研究的意義和背景，并概括性地介紹了隨機(jī)粗糙面電磁散射的理論和方法，主要有基爾霍夫近似方法（KA）、微擾法以及雙尺度法。在第二章

2、中著重介紹了隨機(jī)粗糙面的光散射場的計(jì)算原理，討論了隨機(jī)粗糙面的生成方法，并給出了高斯粗糙面的示例，最后利用具有一定工程參考意義的朗伯散射理論對(duì)粗糙錐面和旋轉(zhuǎn)橢球面的光散射特性做了一定的研究。
　　在第三章中，利用基爾霍夫近似對(duì)高斯分布的隨機(jī)粗糙面的透射散射場的強(qiáng)度空間分布特性作了討論，在討論的過程中考慮了遮蔽效應(yīng)的影響；在第四章，首先模擬生成了FBM隨機(jī)粗糙面，然后利用基爾霍夫近似考察了考慮遮蔽效應(yīng)時(shí)的分形布朗運(yùn)動(dòng)隨機(jī)粗糙面的光散